10月31日至11月1日，应化学与材料科学学院邀请，中微半导体设备公司董事长、首席执行官、我校化学物理系62级校友尹志尧先生，为我院师生作题为“半导体设备产业的历史和发展趋势”的报告，该报告是校庆60周年邀请报告与“郭永怀论坛”的第五讲，并举办了系列交流座谈活动，向师生普及国际和我国半导体行业发展现状，激励师生扎实基础研究，关注科学发展前沿领域，学以致用，为我国在尖端科技领域赶超国际水平贡献力量。
报告会于10月31日晚上18:30在理化大楼西三报告厅举行，学院党委书记葛学武、副院长胡水明、副院长刘世勇、院党委副书记闫立峰、化学物理系系总支书记李群祥，以及学院本科生、研究生和青年教师300余人聆听了报告。
报告会由胡水明副院长主持，他代表学院热烈欢迎尹志尧先生的到来，并对尹志尧先生和中微半导体设备公司进行了介绍。
尹志尧回顾了自己考入中国科大的经历，表示非常欣慰看到科大在科学研究和人才培养上取得的成就。他说，很多科大毕业的校友为半导体行业做出了重要贡献，中微半导体设备公司有14位科大毕业生，在公司的各方面起到了关键作用，尤其是在技术研发领域。随后，尹志尧介绍了半导体微观加工设备的重要性、集成电路和设备产业的历史、集成电路的制成和发展趋势、微观加工的关键设备、集成电路制造和设备产业的挑战性、我国集成电路和设备产业的发展形势、中微半导体设备公司的发展概况和对未来第三次工业革命的畅想，使在场师生对半导体产业的发展历史、基本技术原理、发展重要性、国际前沿技术水平和半导体产业在我国的发展现状及发展前景有了更加深入的认识。
报告内容丰富、全面，时间长达三个多小时，报告中通过举例、讲解模型图、结合自己亲身经历等方式，帮助大家更好地理解半导体行业的相关知识。在讲解微观加工的重要性时，尹志尧描述了自己在北京大学求学时所见到的我国1955年制成的首个电子管计算机的外观，经过科学家们两个30年的努力，已经将微观器件的面积缩小一万亿倍，让大家切实感受到微观加工对科技变革的重要影响；在介绍等离子体反应器和等离子体刻蚀技术的基本原理时，他详细列出了同学们所熟知的气体动力学、化学反应动力学、材料科学等七个涉及到的基本技术领域和物理轰击、化学刻蚀、化学沉积三个基本过程，将前沿设备产品与同学们所学的基础知识相结合，既让同学们理解了产品的技术原理，又让他们明白了学好数学、物理和化学基础知识的重要性；在讲述当前集成电路制造和设备产业的挑战时，他列举了目前在HAR刻蚀中因受表面电荷影响而产生的刻蚀孔变形的问题，并表示目前半导体产业还有许多关键性问题等待大家去研究解决。
尹志尧认为，目前人类已经开始进入第三次工业革命，并在未来原生人的健康与寿命、机械人和克隆生物制造等方面展开了了丰富的畅想，引发了同学们对未来“超人化”发展的兴趣。报告中，他注重与现场师生互动，语言风趣幽默，现场气氛十分活跃，全场座无虚席。在提问交流环节，学生们针对半导体产业的发展和尹志尧先生的个人经历，踊跃提问，尹志尧先生一一给予了耐心细致的解答。
报告结束后，胡水明副院长为尹志尧先生授纪念牌。
